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| MOQ: | quadrato 3000 |
| prezzo: | $1.81-$2.76 |
| imballaggio standard: | Imballato in cartone, 70 pezzi per pallet |
| Periodo di consegna: | 8 giorni days-28 |
| metodo di pagamento: | T/T |
| Capacità di approvvigionamento: | 1900000㎡/moth |
PS, adatto per stampa commerciale, stampa del libro, stampa a colori. I punti sono chiari, gli strati sono chiari, l'equilibrio dell'inchiostro è buono e la durevolezza di stampa è alta. Inchiostrazione di facile impiego e veloce luminosa di operazione della stanza. Il costo di stampa basso, colore di superficie è verde o blu, verde o blu può essere personalizzato secondo i requisiti di cliente
La formula unica può avviare una reazione a catena con il photoresist, efficacemente accorciante il tempo di esposizione. La bassa temperatura unica che asciuga la tecnologia protegge il photoresist dalla neutralizzazione, permettendo al photoresist di avere più alta sensibilità, alla risoluzione ed alla resistenza dell'alcali.
| Sensibilità: | 60-80mj/m |
| Risoluzione: | 1%@200lpi e 20 µ FM (rete di FM) |
| Tasso di Pressrun: | Alto |
| Tolleranza di sviluppo: | Buon |
| Resistenza di IPA: | Buon |
| Rivestimento: | Verde o blu |
| a trattamento idrofilo basato a edizione: | là |
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| MOQ: | quadrato 3000 |
| prezzo: | $1.81-$2.76 |
| imballaggio standard: | Imballato in cartone, 70 pezzi per pallet |
| Periodo di consegna: | 8 giorni days-28 |
| metodo di pagamento: | T/T |
| Capacità di approvvigionamento: | 1900000㎡/moth |
PS, adatto per stampa commerciale, stampa del libro, stampa a colori. I punti sono chiari, gli strati sono chiari, l'equilibrio dell'inchiostro è buono e la durevolezza di stampa è alta. Inchiostrazione di facile impiego e veloce luminosa di operazione della stanza. Il costo di stampa basso, colore di superficie è verde o blu, verde o blu può essere personalizzato secondo i requisiti di cliente
La formula unica può avviare una reazione a catena con il photoresist, efficacemente accorciante il tempo di esposizione. La bassa temperatura unica che asciuga la tecnologia protegge il photoresist dalla neutralizzazione, permettendo al photoresist di avere più alta sensibilità, alla risoluzione ed alla resistenza dell'alcali.
| Sensibilità: | 60-80mj/m |
| Risoluzione: | 1%@200lpi e 20 µ FM (rete di FM) |
| Tasso di Pressrun: | Alto |
| Tolleranza di sviluppo: | Buon |
| Resistenza di IPA: | Buon |
| Rivestimento: | Verde o blu |
| a trattamento idrofilo basato a edizione: | là |
